光刻膠是什麼

光刻膠是又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕塗層材料。半導體材料在表面加工時，若採用適當的有選擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的影象。光刻膠按其形成的影象分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，塗層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該塗層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該塗層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。

光刻膠主要應用於顯示面板、積體電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業。光刻膠生產技術較為複雜，品種規格較多，在電子工業積體電路的製造中，對所使用光刻膠有嚴格的要求。