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熱氧化物在硅片製造的四種用途
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1、金屬層間絕緣阻擋層:用做金屬連線間的保護層。2、注入屏蔽氧化層:用於減小注入夠到和損傷。3、勢氧化層:做氧化硅緩衝層以減小應力。4、摻雜阻擋層:作為摻雜或注入雜質到硅片中的掩蔽材料。
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硅片
氧化物
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